IPB 2011 第九屆粉體工業(yè)/散裝技術(shù)展覽會(huì)暨會(huì)議

    時(shí)間：2011年9月27-29日

    地點(diǎn)：上海展覽中心

    地址：上海市興義路77號(hào)

    公司展位號(hào)1211，屆時(shí)將攜干法激光粒度儀HELOS/RODOS（測(cè)試范圍0.1-3500μm）、動(dòng)態(tài)粒度粒形分析儀QICPIC（測(cè)試范圍1-20000μm）、納米激光粒度儀NANOPHOX（測(cè)試范圍1-10000nm），并有中國(guó)工程師在現(xiàn)場(chǎng)為您做的介紹與解答。

    德國(guó)新帕泰克的干法粒度儀HELOS/RODOS，以其“干樣干測(cè)”、“瞬時(shí)分散，瞬時(shí)測(cè)量”的優(yōu)勢(shì)，廣泛以用于粉體行業(yè)的粒度分析與測(cè)量，具有分散效果好、測(cè)試速度快、性與精度高等優(yōu)點(diǎn)。

    動(dòng)態(tài)粒度粒形儀QICPIC在分析粒度分布信息的基礎(chǔ)上，提供粒形信息，為以顆粒形態(tài)為表征的行業(yè)與分析研究院提供了包括球形度、長(zhǎng)寬比、纖維長(zhǎng)度等更多參數(shù)的信息。

    納米粒度儀NANOPHOX使用PCCS的原理，消除多重散射的影響，測(cè)試濃度高，性好，同時(shí)提供穩(wěn)定性分析，是分析納米粉體的*選擇。

    儀器詳細(xì)參數(shù)請(qǐng)參見(jiàn)我公司產(chǎn)品介紹，誠(chéng)摯歡迎各界人士的蒞臨展位交流！